德國光學巨擘蔡斯集團（Zeiss Group）半導體部門主管 Frank Rohmund 於彭博電視專訪中明確指出，中國在發展極紫外光（EUV）微影設備方面，整體進度仍落後西方領先群約十五年。此一時間表被視為「合理的假設」，但中國的真實研發進度因機密性高而難以精確量化。蔡斯作為荷蘭半導體設備霸主艾司摩爾（ASML）在 EUV 機台中光學系統的獨家供應商，其發言具有極高的產業權威性。
值得注意的是，此一觀點與瑞銀（UBS）分析師 Francois-Xavier Bouvignies 團隊本週發布的研究報告相互呼應，後者同樣認為中國距離自主開發 EUV 技術至少還有十年光景。然而 Rohmund 也同步釋出警訊，強調出口管制措施反而會加速中國的自主創新動能，這場美中科技冷戰的長期走向，絕非單純的「時間差遊戲」可以定論。
這場圍繞 EUV 微影技術的攻防戰，本質上是全球半導體霸權與國家安全邏輯的終極碰撞，背後牽動三方核心利益集團的劇烈拉扯。
第一、美國國家安全陣營 vs. 全球半導體供應鏈商業利益：華府將 EUV 視為制約中國發展最先進 AI 晶片的戰略鎖喉點，透過外交施壓與出口禁令雙軌並進，試圖將中國永遠鎖在 7 奈米以下的製程瓶頸。然而 Rohmund 明確警告，「我們不相信這些出口管制能產生正面效果，因為它只會加速中國的創新」，此一矛盾凸顯了地緣政治凌駕產業規律的危險後果。
第二、ASML 與蔡斯的專利護城河 vs. 中國的國家資本傾注：蔡斯自豪地表示其光學元件被用於全球約 80% 晶片的生產，ASML 也在 2017 年以十億歐元入股蔡斯半導體部門，建立起牢不可破的命運共同體。但北京已投入數十年研發並砸下鉅額國家資金，矢志達成半導體自給自足。
第三、傳統 DUV 市場的商業現實 vs. 全面脫鉤的政治壓力：中國仍是 ASML 上一代深紫外光（DUV）設備的頂級市場之一，若出口管制進一步擴大至舊世代 DUV 機台，將直接衝擊 ASML 與蔡斯的營收根基。
最新發展顯示，一家位於上海的公司已被報導能製造沉浸式 DUV 微影設備，這項突破印證了 Rohmund 所言：「他們（中國）研究這項技術已有數十年，如今我們必須觀察這些設備的實際性能究竟如何。」這場博弈的最大受益者，短期內仍是已建立專利壁壘與光學技術護城河的 ASML 與蔡斯，但長期看，整個西方半導體生態系恐被迫面對「分裂後的中國市場」與「加速中的中國自主供應鏈」雙重夾擊。
國際制裁與出口管制警報
🟠 高度管制 (HIGH RISK)資料來源：OpenSanctions / Dutch Export Control
⚠️ 合規與地緣風險要點： 荷蘭政府與美國協議管制 Twinscan NXT:1970i/1980i 等浸潤式 DUV 及全部 EUV 光刻機向特定受限制國家出口與維修授權。
戰略貿易流向與供應鏈依賴度
HS 8542資料來源：UN Comtrade 聯合國商品貿易統計庫 · 全球市場規模 $5,800 億美元 / 年
經常告訴我們，當技術封鎖遇上國家意志，時間從來不是線性流逝的。回顧冷戰時期美國對蘇聯的太空技術封鎖、最終催生了蘇聯獨立的太空工業體系；或是 1980 年代日本半導體崛起迫使美國祭出《半導體協議》進行壓制，每一次「技術鎖喉」都意外成為被封鎖方的創新催化劑。本案 EUV 之爭的演進路徑，可分為以下三種情境推演：
無論哪種情境成真，「半導體主權」已成為 21 世紀大國博弈的核心戰場，台灣作為全球先進製程的心臟地帶，其地緣戰略價值只會持續攀升而非下降。
面對這場美中 EUV 爭霸戰的長期化趨勢，相關決策者應採取以下分層行動策略：
01 起因觸發：美國對 ASML 實施 EUV 出口禁令，啟動全球半導體設備供應鏈的戰略重組
02 一階傳導：荷蘭 ASML 與德國蔡斯被迫選邊站，失去中國 EUV 市場但鞏固西方陣營獨佔地位
03 二階擴散：中國國家資本加速挹注本土 EUV 研發，上海微電子等設備商獲得政策與資金雙重紅利
04 三階深化：台積電、三星、英特爾等先進製程客戶面臨「非中國供應鏈」的純化壓力，地緣溢價持續堆疊
05 宏觀終局：2030 年代全球半導體生態系恐分裂為「美日荷先進製程聯盟」與「中國成熟製程自主體系」兩大陣營，台灣成為雙方競相拉攏的戰略要衝
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